拟采购货物或服务的

详细说明

1、偏压辅助沉积功能，在磁控溅射过程中对基底能够施加正负双极性的直流偏压（±150V），以达到改善薄膜组织结构的目的;

2、偏压清洗功能，在溅射之前对基底施加大偏压，将仓内Ar原子电离，Ar⁺轰击基板将以祛除基板上的氧化物薄膜;

3、适配现有设备的软件操作系统，能够在镀膜过程中随时施加或取消偏压辅助沉积

单一来源

采购原因

及

相关说明

我们现有设备为科特.莱斯科公司的 Pro Line PVD75 高功率脉冲薄膜沉积系统，设备号为∶E2003133。此设备不具备偏压辅助沉积功能。要采购的辅助直流偏压沉积直流电源有两个主要功能∶偏压辅助沉积功能和偏压清洗功能。除此之外，还能够良好适配现有镀膜操作系统，可兼容现有镀膜设备。能够在沉积过程中对基底施加0-150V的直流偏压，以达到改善薄膜组织结构，调控薄膜应力的目的。同时可应用于薄膜制备过程中应力场演变、残余应力演变规律等研究。国内外其他厂家电源设备被不能和现有镀膜设备兼容，因此，还需要采用原厂家偏压电源设备。

拟成交

供应商

名称：

科特莱思科（上海）商贸有限公司

地址：

中国上海自由贸易试验区张衡路 1000 弄31-32号

公示期限

2020年12月16日至2020年12月20日（不少于5个日历日）

招采中心

联系方式

联系地址：北京市海淀区学院路30号北京科技大学招标与采购管理中心货物与服务采购科（办公楼106室）

联 系 人：秦老师

联系电话：010-62332135